烴露點(diǎn)儀采用冷鏡法原理，基于露點(diǎn)物理定義進(jìn)行測量，使用高度惰性、先進(jìn)的晶體陶瓷作為基體，利用紅外光源及光譜儀判斷冷凝層的形成，并對其進(jìn)行定性，從根本上解決了傳統的冷鏡露點(diǎn)儀不能判斷產(chǎn)生的冷凝物性質(zhì)的不足，并獲得專(zhuān)利。

　　許多行業(yè)諸如石化、電力、電子、航空航天、冶金、紡織等對濕度測量的要求越來(lái)越高，因而，烴露點(diǎn)儀濕度測量已逐漸成為一個(gè)新興的技術(shù)領(lǐng)域，在86年我國正式成立了濕度與水分專(zhuān)業(yè)委員會(huì )，并開(kāi)展了多次學(xué)術(shù)交流會(huì )，濕度的一些計量檢定規程也逐步建立。

　　根據有關(guān)規程，濕度被定義為氣體中的水蒸氣含量，常用單位有：克/升，PPM，mmHg，露點(diǎn)及相對濕度等。習慣上以露點(diǎn)-20℃為界把所測氣體分為高濕度氣體與低濕度氣體(即微量水)，這里重點(diǎn)介紹低濕度氣體的測量。

　　在露點(diǎn)測量中，鏡面污染是一個(gè)突出的問(wèn)題，其影響主要表現在兩個(gè)方面;一是拉烏爾效應，拉烏爾效應是由水溶性物質(zhì)造成的。如果被測氣體中攜帶這種物質(zhì)(一般是可溶性鹽類(lèi))則鏡面提前結露，使測量結果產(chǎn)生正偏差。

　　二是改變鏡面本底放射水平。若污染物是不溶于水的微粒，如灰塵等，則會(huì )增加本底的散射水平，從而使光電露點(diǎn)儀發(fā)生零點(diǎn)漂移。此外，一些沸點(diǎn)比水低的容易冷凝的物質(zhì)(例如有機物)的蒸氣，不言而喻將對露點(diǎn)的測量產(chǎn)生干擾。

　　因此，無(wú)論任何一種類(lèi)型的烴露點(diǎn)儀都應防止污染鏡面。一般說(shuō)來(lái)，工業(yè)流程氣體分析污染的影響是比較嚴重的。但即使是在純氣的測量中鏡面的污染亦會(huì )隨時(shí)間增加而積累。